L'industria dei semiconduttori si trova in un momento cruciale. Per decenni la sua traiettoria è stata tracciata dalla famosa previsione del 1965 del cofondatore di Intel, Gordon Moore, secondo cui il numero di transistor in un circuito integrato (IC) sarebbe raddoppiato all'incirca ogni due anni. La Legge di Moore ha guidato l'industria nella produzione di chip sempre più piccoli, veloci ed economici, trasformando le infrastrutture, le abitazioni e persino i dispositivi mobili.
Tuttavia, mentre l'industria continua la sua ricerca per ridurre i transistor al di sotto della soglia di un nanometro (nm), si trova ad affrontare sfide senza precedenti. Ostacoli come l'impennata dei costi di produzione stanno ridefinendo la roadmap dei produttori di chip, determinando deviazioni dalla Legge di Moore.
Uno degli sviluppi più rivoluzionari nella storia recente dei semiconduttori è stato il progresso della tecnologia di litografia ultravioletta estrema (EUV) di ASML. Utilizzando una luce con una lunghezza d'onda di 13,5 nm, le macchine EUV hanno fatto compiere un notevole passo avanti al settore, consentendo la modellazione precisa di caratteristiche su scale inferiori a 7 nm.
In futuro l'industria dei semiconduttori dovrà affrontare le sfide della miniaturizzazione adottando nuove tecnologie e strategie. Questi approcci comportano l'esame di diverse architetture e la creazione di nuovi metodi di test per migliorare i rendimenti (aumentare il numero di chip funzionali prodotti da ogni wafer), affrontando i limiti imposti dalla fisica e dall'economia.