De halfgeleiderindustrie staat op een spannend kruispunt. Decennialang verliep de ontwikkeling volgens het bekende principe van Gordon Moore, een van de oprichters van Intel, die in 1965 voorspelde dat het aantal transistors op een geïntegreerd circuit (IC) ongeveer elke twee jaar zou verdubbelen. In lijn met de Wet van Moore leverde de industrie steeds kleinere, snellere en goedkopere chips, waardoor onze infrastructuur en onze huizen veranderden evenals onze mobiele apparaten.
Maar de industrie staat nu voor ongekende uitdagingen met de verdere miniaturisering van transistors tot minder dan één nanometer (nm). Door belemmeringen zoals torenhoge productiekosten verandert de routekaart voor chipmakers, waardoor de Wet van Moore niet langer meer op dezelfde manier opgaat.
Een van de meest baanbrekende ontwikkelingen in de recente geschiedenis van de halfgeleiderindustrie is de extreme ultraviolet (EUV) lithografie-technolgie van ASML. EUV-lithografie maakt sub-7 nm chipontwerpen mogelijk doordat er gebruik wordt gemaakt van licht met een golflengte van 13,5 nm, wat de resolutie van patronen aanzienlijk verbetert.
De halfgeleiderindustrie past nieuwe technologieën en strategieën toe om verdere miniaturisering in de toekomst mogelijk te maken. Hierbij worden verschillende architecturen onderzocht en nieuwe testmethodes ontwikkeld om de opbrengst te verhogen (het verhogen van het aantal functionele chips dat van elke wafer wordt gemaakt) en om de fysieke beperkingen en hoge productiekosten te ondervangen.
